Fotorespuesta de las películas delgadas de Óxido de Ti preparadas por "sputtering"

Autores/as

  • Mónica Gómez León Facultad de Ciencias, Universidad Nacional de Ingeniería. Lima, Perú. https://orcid.org/0000-0003-0990-0593
  • Juan Rodríguez Facultad de Ciencias, Universidad Nacional de Ingeniería. Lima, Perú.
  • Sten-Eric Lindquist Departamento de Físico Química, Universidad de Uppsala. Uppsala, Suecia.
  • Claes Granqvist Departamento de Ciencias de los Materiales, Universidad de Uppsala. Uppsala, Suecia.

DOI:

https://doi.org/10.21754/tecnia.v9i2.320

Resumen

Películas de óxido de Ti policristalino fueron depositadas empleando DC “sputtering” reactivo con magnetron de platos de Ti en una atmósfera de O2+Ar sobre láminas de vidrio pre-cubiertas con ITO (óxido de indio dopado con estaño). Las fases anatasa y rutilo se obtuvieron por calentamiento del sustrato durante el deposito de las películas. La eficiencia en la conservación foton-incidente-corriente (denominado “IPCE” de la expresión inglesa Incident Photon-to-Current Eficiency) se estudió en función de diferentes parámetros de preparación, tales como la temperatura del sustrato, el espesor de la película y la relación de flujos O2/Ar. La fotorespuesta se midió usando un sistema de tres electrodos empleando un electrolito acuoso de 0.1 M de KI, que fue purgado con nitrógeno. El espectro de la fotorespuesta se obtuvo en un rango de longitud de onda entre 280 y 400 nm. Se encontró que la fotorespuesta dependió grandemente de la estequiometría del material, del espesor de las películas, así como de la estructura cristalina del óxido de Ti.

Descargas

Los datos de descargas todavía no están disponibles.

Citas

[1] Granqvist, C.G. (1995) Handbook of Inorganic Electrochromic Materials, Elsevier, Amsterdam, pp. 266-267.
[2] Fujishima, A. And Honda, K. Nature 238 (1972) 37.
[3] Le Bellac, D., Niklasson, G.A. and Granqvist, C.G. J. Appl. Phys. 77 (1995) 6145.
[4] Powder Diffraction Files (Int. Center for Diffraction Data) (1997); files 21-1272 and 21-1276.
[5] Cullity, B. D. (1959), Elements of X-ray Diffraction, Addison-Wesley, Reading.
[6] Stromme, M., Gutarra, A., Nilasson G.A. and Granqvist, C.G. J. Appl. Phys. 79 (1996) 3749.
[7] Ichikawa, S. and Doi, R. Thin Solid Films 292 (1997) 130.
[8] Lindquist, S.-E., Finnstrom, B. and Tegner,L. J. Electrochem. Soc. 130 (1983) 351.

Descargas

Publicado

1999-12-01

Cómo citar

[1]
M. Gómez León, J. Rodríguez, S.-E. Lindquist, y C. Granqvist, «Fotorespuesta de las películas delgadas de Óxido de Ti preparadas por “sputtering”», TECNIA, vol. 9, n.º 2, pp. 33–37, dic. 1999.

Número

Sección

Artículos