FOTORESPUESTA DE LAS PELÍCULAS DELGADAS DE ÓXIDO DE Ti PREPARADAS POR "SPUTTERING"

  • Mónica Gómez
  • Juan Rodríguez
  • Sten-Eric Lindquist
  • Claes Granqvist
Palabras clave: FOTORESPUESTAS, ÓXIDO

Resumen

Películas de óxido de Ti policristalino fueron depositadas empleando DC “sputtering” reactivo con magnetron de platos de Ti en una atmósfera de O2+Ar sobre láminas de vidrio pre-cubiertas con ITO (óxido de indio dopado con estaño). Las fases anatasa y rutilo se obtuvieron por calentamiento del sustrato durante el deposito de las películas. La eficiencia en la conservación foton-incidente-corriente (denominado “IPCE” de la expresión inglesa Incident Photon-to-Current Eficiency) se estudió en función de diferentes parámetros de preparación, tales como la temperatura del sustrato, el espesor de la película y la relación de flujos O2/Ar. La fotorespuesta se midió usando un sistema de tres electrodos empleando un electrolito acuoso de 0.1 M de KI, que fue purgado con nitrógeno. El espectro de la fotorespuesta se obtuvo en un rango de longitud de onda entre 280 y 400 nm. Se encontró que la fotorespuesta dependió grandemente de la estequiometría del material, del espesor de las películas, así como de la estructura cristalina del óxido de Ti.

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Publicado
1999-12-01
Cómo citar
[1]
M. Gómez, J. Rodríguez, S.-E. Lindquist, y C. Granqvist, «FOTORESPUESTA DE LAS PELÍCULAS DELGADAS DE ÓXIDO DE Ti PREPARADAS POR "SPUTTERING&quot»;, tecnia, vol. 9, n.º 2, dic. 1999.
Sección
Artículos generales